Lithografische Systeme, wie sie beispielsweise in der Wafer-Inspektion eingesetzt werden, nutzen komplexe Optiken und Objektive, die teils hohe Leistungen transportieren und optimal abbilden müssen. Vorrangig ist dabei die Überwachung und Analyse der optischen Qualität – vom ersten Prototypen bis in die Produktion.
Bei der Justage und Überwachung optischer Systeme liefern Wellenfrontsensoren für den DUV- und UV-Bereich präzise Messungen mit hoher intrinsischer Stabilität. Durch die Zernike-Analyse der Wellenfront werden selbst feinste Dejustagen erfasst. Die zugehörige Information kann über die erweiterten I/O-Funktionen der Shack-Hartmann Software weitergegeben werden, z.B. für die automatisierte Justage.
SHSInspect Prüfsysteme messen neben der transmittierten Wellenfront im Feld die Brennweite, PSF/MTF und Bildfeldwölbung lithografischer Objektive. Die teil-automatisierte Messung sorgt dabei für minimalen Bedienereinfluss.
Unsere Lösung für Lithografie-Anwendungen
Die SHSLab Wellenfrontsensoren für den DUV- und UV-Bereich zwischen 193nm und 400nm werden für die präzise und schnelle Justage optischer Systeme verwendet.
SHSInspect Prüfsysteme werden zur umfassenden Charakterisierung von Objektiven eingesetzt.
